主要规格及技术指标

分辨率：≤0.8nm@15kV，1.6nm@1kV 放大倍率：20-1,000,000倍； 加速电压：20V – 30kV； 最大电子束位移量不小于30um 电子束曝光分辨率小于50nm

主要功能及特色

场发射扫描电镜主要用于观察、分析和记录材料的微观形貌，通过与电子束曝光系统联用可以实现在样品表面进行电子束直写微纳米复杂图形，实现微纳米器件的加工和制备。

主要附件与配置

前级无油机械泵 *1； 原装进口冷却循环水系统 *1； 原装进口空气压缩机 *1 样品室内红外CCD相机 *1; 原装进口电子束束闸控制器 *1； 原装进口电子束曝光系统 *1； 不间断稳压电源UPS *1